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溅射靶材

金属靶材 合金靶材 陶瓷靶材 靶材定制 靶材应用 镀膜基片 靶材相关服务

溅射镀膜工艺经过近些年的发展,对于各种材料的镀膜工艺已经非常完善。本中心提供全系列溅射镀膜靶材(包括金属靶材,合金及中间合金靶材,陶瓷靶材)给各大专院校,科研机构,工矿企业。

磁控溅射靶材 磁控溅射靶材成型方法:材料的成型方式根据产品性能和客户的不同要求进行选择一般材料熔点比较低时,采用真空熔炼后浇铸再进行锻轧等工艺消除气孔,当然有效的热处理细化晶粒均匀材质是非常必要的。熔点高的材料(或脆性大的材料)采用热压,或热等静压成型,也有些采用冷等静压成型然后烧结。本公司提供的各种溅射靶材,工艺适当,密度高,晶粒均匀,使用寿命长。。。

溅射镀膜应用领域: 溅射镀膜应用领域非常广泛,主要用于包装镀膜,装饰镀膜,建筑玻璃镀膜、汽车玻璃镀膜、低辐射玻璃镀膜,平面显示器,光通讯/光学工业,光数据存储工业,光数据存储工业,磁数据存储工业光学镀膜,半导体领域,自动化,太阳能,医疗,自润滑膜层,电容器镀膜,其它功能性镀膜等。(点击可进入详细介绍)

溅射靶材背板供应,邦定服务:本中心提供各种溅射靶材背板,包括无氧铜,钼,铝,不锈钢等材料。同时提供靶材与背板的焊接服务。
(点击进入详细参数列表)

背板供应:无氧铜、铝、钛、不锈钢、钼背板。
金属化处理:溅射靶材金属化处理,为下一步邦定服务做好准备。
邦定服务:批量化生产。

供应各种基片:(点击进入详细列表)

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