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溅射靶材

溅射靶材是薄膜沉积过程中的固体材料源,可由单质、合金或化合物制成。选择靶材时,除了成分和纯度,还应明确靶形、尺寸、背板及设备接口;不同材料体系需要匹配不同的沉积条件。

选型要点:说明圆靶或矩形靶尺寸、厚度、背板要求、设备型号及目标膜层。

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氟化钡靶材 · 产品展示图

氟化钡靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7787-32-8

99.99%
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氟化镱靶材 · 产品展示图

氟化镱靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 13760-80-0

99.99%
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CaF2

氟化钙靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7789-75-5

4N (99.99%)
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LiF

氟化锂靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7789-24-4

4N (99.99%)
规格请咨询
MgF2

氟化镁靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7783-40-6

4N (99.99%)
规格请咨询
LaF3

氟化镧靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 13709-38-1

4N (99.99%)
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CeF3

氟化铈靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7758-88-5

4N (99.99%)
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GdF3

氟化钆靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 13765-26-9

4N (99.99%)
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YF3

氟化钇靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 13709-49-4

4N (99.99%)
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