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溅射靶材

溅射靶材是薄膜沉积过程中的固体材料源,可由单质、合金或化合物制成。选择靶材时,除了成分和纯度,还应明确靶形、尺寸、背板及设备接口;不同材料体系需要匹配不同的沉积条件。

选型要点:说明圆靶或矩形靶尺寸、厚度、背板要求、设备型号及目标膜层。

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硅靶材 · 产品展示图

硅靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-21-3

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氮化硅靶材 · 产品展示图

氮化硅靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12033-89-5

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碳化硅靶材 · 产品展示图

碳化硅靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 409-21-2

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二硅化铬靶材 · 产品展示图

二硅化铬靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12017-94-6

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二硅化钼靶材 · 产品展示图

二硅化钼靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12136-78-6

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二硅化镍靶材 · 产品展示图

二硅化镍靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12265-55-3

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二硅化钛靶材 · 产品展示图

二硅化钛靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12039-83-7

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二硅化锆靶材 · 产品展示图

二硅化锆靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12039-90-6

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硅平面靶材 · 产品展示图

硅平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-21-3

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