
氧化铪掺氧化硅靶材(HfO2-SiO2)
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溅射靶材是薄膜沉积过程中的固体材料源,可由单质、合金或化合物制成。选择靶材时,除了成分和纯度,还应明确靶形、尺寸、背板及设备接口;不同材料体系需要匹配不同的沉积条件。
选型要点:说明圆靶或矩形靶尺寸、厚度、背板要求、设备型号及目标膜层。

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溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12039-95-1

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溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12401-56-8
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溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 12039-88-2
溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-21-3