请说明工作波段、目标膜层结构、基片与蒸发或溅射方式,再确认材料组成和交付规格。
二氧化硅靶材(SiO2)
五氧化二钽靶材(Ta2O5)
氧化铪靶材(HfO2)
图片和材料名称对应官网独立产品页。具体器件用途、材料等级和工艺适配需按项目确认。
请提供目标材料、配比、形态、尺寸、用量与检测要求。
支持中文、英文、化学式和 CAS 号。按 Esc 关闭。