钨绞丝，钨舟，钼舟，蒸发盘，钽片，钨坩埚，钽坩埚，钼坩埚，水冷铜坩埚，氧化铝坩埚，碳化硼坩埚，二硼化钛坩埚，其他陶瓷坩埚。。。同时我公司可根据客户要求进行成分配比进行原材料选择，也可根据客户图纸进行机械加工。

蒸发源分类列表：

加热法	蒸发源	蒸发物质	膜面积	最高使用温度/K	沉积速度	速度控制	附着性	膜纯度	超高真空蒸镀	备注
1.电阻加热	蒸发盘，灯丝，蒸发罐，直接通电	几乎所有物质	中	2000	个位数	容易	良	中-优	可	镀料有和加热丝合金化而发生断丝现象
2.外加热坩埚	陶瓷坩埚+加热器	几乎所有物质	中	2000	二位数	容易	良	低-中	不可	生成还原沉积物
3.辐射加热（弧光加热）	试样表面，热屏坩埚（W，Ta）	几乎所有物质	小	2000-3000	二位数	难	良	中-高	可	也可利用太阳能
4.高频加热	陶瓷坩埚	金属	中	2000	二位数	难	良	中	不可	不可混入杂质
5.电子束加热	水冷铜坩埚+电子枪	几乎所有物质	中	3500	三位数	可能	优	高-优	可	高电压（几千伏至几十千伏）
6.电子轰击	水冷铜坩+试样棒	金属	中	2500	个位数	可能	优	高	可	与5。相比不直接受热部分较多，故放气较多，电压至几千伏
7. 闪蒸法	高温蒸发舟	几乎所有物质	小-中	-2500	约100	不可能	优	中-高	不可	适合化合物，合金，喷出释放
8. 通电爆线	试样自身为线形	金属	小-中	-3000	约100,000	不可能	良	优	不可	瞬时产生等离子体
9. 电弧加热	绝缘容器	金属	中	-3000	约10	不可能	良	高	不可	真空度劣化，不稳定
10. 离子束加热	电弧放电室	金属	小	2500	0.01-0.1	可能	优	高-优	可	超高真空范围
11.激光加热	试样表面	几乎所有金属	小	3500	约1,000,000	难	良	优	可	加热极薄表面层（10nm）

蒸发镀膜材料种类繁多，目前市场主要用的就有上百种。制作工艺主要有，晶体破碎，熔融破碎，拉丝，线材裁切，造粒，制粉，压片，浇铸，模压等。产品形状主要有，线材，粉末，不规则颗粒，小圆柱，小球，锥形..